题目：

Highly efficient and ultrahigh-resolution quantum dot light-emitting diodes via photoisomeric transformation

作者：

Chenglong Wu, Chengzhao Luo*, Yonghuan Huo, Zixuan Chen, Chengze Xu, Xin Zhou, Zhiyong Zheng, Xinwen Wang, Zhenwei Ren* & Yu Chen*

单位：

1 School of Optoelectronic Science and Engineering & Collaborative Innovation Center of Suzhou Nano Science and Technology, Soochow University, Suzhou 215006, China

2 Dushu Lake Science and Education Innovation District, National University of Singapore Suzhou Research Institute, Suzhou 215123, China

摘要：

直接光图案化为下一代显示器的高分辨率量子点图案提供了一种直接的方法。然而，由于量子点表面态和/或周围环境的变化导致其光学性能普遍恶化，这严重限制了高品质量子点图案和高效电致发光器件的获得。在此，陈煜、任振伟、罗成招等人提出了一种巧妙且有效的方法，利用螺吡喃到部花青的光致异构转变来制备高发射性的量子点图案。揭示了抑制量子点与游离部花青之间的非辐射能量转移是实现发光快速恢复的关键。实现了小尺寸（0.8 μm）、高分辨率（15,800 PPI）、高保真度（~100%）、多色且精细化的量子点像素，并展示了该方法在CdSe/ZnS和钙钛矿量子点像素制备中的良好兼容性，以及在刚性及柔性衬底上的适用性。这些优点促进了高性能像素化器件的发展，在6350 PPI分辨率下实现了高达35,534 cd m⁻²的亮度和24.5%的创纪录效率，这是在直接光图案化器件中的最佳表现。此外，验证了所提出策略在高性能像素化钙钛矿器件中的广泛适用性，在1760 PPI分辨率下实现了13.8%的效率。上述结果证实了该方法在制备高质量量子点图案和高性能像素化器件方面的重要价值。

影响因子：23.4

分区情况：一区

链接: https://doi.org/10.1038/s41377-026-02246-0