微纳光学公共平台

   微纳光学公共平台为苏州大学光电科学与工程学院下设科研机构,依托于江苏省“微纳光学”优势学科(2010批准建立)、江苏省现代光学技术重点实验室(2000年批准建立)、省部共建教育部现代光学技术重点实验室(2003年批准建立)、江苏省先进光学制造技术重点实验室(2007年批准建立),主要从事先进光学设计与制造、微纳制造技术与装备、光子器件及其相关领域关键技术的研究与产业化应用。


 

   平台实验室总面积达5000平方米,其中千级超净间面积超3000平方米。目前拥有聚焦离子束刻蚀(Crossbeam550扫描电镜(Sigma 300)、原子力显微镜(Dimensioin Icon)、大型紫外光激光直写3D光刻设备(iGrapher)等一系列微纳加工、制造先进设备。本平台现热忱欢迎科研院所、企事业单位和社会各界的专业人士光临,我们将竭诚为您提供专业服务与高质量的测试结果,希望能与您共同努力,充分发挥大型仪器资源共享的作用,联手为企事业与院校发展、地方经济建设等服务。欢迎有意向的单位及个人和我们联系:

                           电子邮件:    nanoplatform@suda.edu.cn

                           联系电话:(051265223039

                           联系人:     毕老师



相关科研成果及部分仪器设备展示

5年来,以本平台为依托,累计发表重要论文500余篇,申请并获得100余项各类科研项目资助(其中国家级项目30余项,省部级项目20余项),获包括国家科技进步二等奖在内的多项国家、省部级奖。研究成果被各国内外知名企业采用,促进了相关行业技术进步,经济效益显著。

在自主知识产权方面,申请国家发明专利授权60余项,完成重要项目鉴定和验收10余项,部分成果已完成行业转化。

聚焦离子束共焦刻蚀系统(FIB-SEM)

型号:Crossbeam 550

厂家:德国Zeiss

主要规格及技术指标:

  1. 扫描电子显微镜分辨率:1.6nm@1.5KV0.9nm@15KV0.7nm@30KV

  2. 离子束刻蚀分辨率:小于3nm

  3. 存储分辨率:32K×24K

  4. 样品台运动行程:X-Y方向:100/153mmz方向:50mmz’方向:13/20mmT=-470度,360度旋转;

  5. 单支气体注入系统:PtC

  6. 多支气体注入系统:PtCWAuH2OSiOXXeF2

主要功能及特点:

  • 利用高强度聚焦离子束对材料进行纳米加工,可在极低的电压下实现高速率、大束流的样品处理,并保持样品质量;

  • 可实现低于3nm的优异分辨率;

  • 加大样品仓(153 mm)为您提供更多选择;

  • 具有FIB束流自动恢复系统,从而满足长周期实验的需要;

  • 可配合扫描电镜(SEM)等高倍数电子显微镜实时观察,在各种条件下保持高分辨特性,同时获取Inlens SEInlens ESB图像,完成纳米级分析、制造


扫描电镜(SEM

型号:Sigma 300Horiba HR320

厂家:德国Zeiss,日本Horiba

主要规格及技术指标:

  1. 扫描电子显微镜分辨率:1.6nm@1KV1nm@15KV1nm@30KV

  2. 存储分辨率:32K×24K

  3. 最大扫描速度:50ns/像素;

  4. 放大倍率:10~1,000,000×

  5. 探针电流:3pA-20nA

主要功能及特点:

  • 利用扫描电镜平台产生高能电子束轰击样品,激发阴极荧光信号,同时利用配套的光谱仪,即可同时获取相应的电子显微和光谱信息;

  • 研究材料中对应于电子显微成像的位错、缺陷以及电子能带结构等诸多重要信息。


电子束刻蚀系统(EBL

型号:PIONEER Two

厂家:德国Raith

主要规格及技术指标:

  • 最小光刻线宽:≤8nm

  • 集成了高精度的激光干涉工作台,XY方向定位精度:2nm;拼接套刻精度:≤50nm

  • 样品台运动行程:50×50×25mm

  • 热场发射电子枪,加速电压:20V~30kV

  • 放大倍数:20~1,000,000×

主要功能及特点:

  • 将专业电子束曝光设备和电子成像系统所有的先进性能,融合成一套独立的成套系统。主要应用于纳米级光刻、高分辨率成像与材料结构分析等。




原子力显微镜(AFM)

型号:Dimension Icon

厂家:美国Bruker

主要规格及技术指标:

  1. X-Y方向扫描范围:典型值:90μm*90μm,最小:85μmXY方向定位噪音水平闭环控制< 0.15nm

  2. Z方向扫描范围:典型值:10μm,最小:9.5μmZ方向噪声水平闭环控制< 0.35 Å

  3. 电动定位样品台(X-Y轴):180mm*180mm可视区域;单向2μm重复性;双向3μm重复性。

  4. 显微镜光学系统:五百万像素数字照相机,180μm1465μm可视范围,数字缩放及自动对焦功能。

主要功能及特点:

  • 可实现样品表面形貌表征,表面物化属性表征;

  • 可对原子和分子进行操纵、修饰和加工,并设计和创造出新的结构和物质;

  • 控制器:NanoScope V型控制器;

  • 工作台:整合所有控制器、结合人体工学设计,提供直接的物理或可视借口;

  • 震动隔绝:整体式气动减震台;

  • 声音隔绝:可隔绝环境中85 dB的持续噪音。


激光图形化直写设备(iGrapher

型号: iGrapher200

厂家:中国苏大维格

主要规格及技术指标:

  1. 光学分辨率:0.1μm-0.25μm

  2. 光刻幅面:200mm╳200mm

  3. 基片尺寸:8" wafer

  4. 最小线宽:1μm

  5. 光刻速度:150 – 900 mm2/min

主要功能及特点:

  • 直写、干涉混合光刻;

  • 专门用于精密微电路、和微纳模具的无掩模光刻,应用于柔性电路、平板显示(OLED)、触控电路、MEMS的光刻工艺、光掩膜制版和微图形模具制备;

  • 3D导航自动聚焦;

  • 并行频闪曝光方式;

  • 高精度气浮直线电机驱动。

光谱式椭偏仪 (SE

型号: GES5E

厂家:法国Semilab

主要规格及技术指标:

  1. 测试速度:<1 sec(快速测试模式);<120 sec(高分辨率测试模式);

  2. 测量光谱分辨率:<0.5nm@633nm(高分辨率测试模式);<0.8nm@633nm(快速测试模式);

  3. 最大样品尺寸:300mm;

  4. 厚度测量范围:0.01nm-50μm;

  5. 厚度测试精度:0.02nm @120nm SiO2 on Si;

  6. 折射率测试精度:0.002 @120nm SiO2 on Si。

主要功能及特点:

  • Semilab针对科研院所和企业研发中心推出的多功能桌面型旗舰产品;

  • 基于椭圆偏振测试技术,采用先进的旋转补偿器;

  • 采用了模块化的设计,可自由组合多种扫描和真空变温样品台,多种从135nm深紫外光谱至2400nm近红外光谱的探测器,多种测试光斑尺寸;

  • 可拓展FTIR红外光谱测试模组、EPA薄膜孔隙率测试模组、涡电流法非接触方块电阻测试模组、Mueller Matrix各项异性材料测试模组、Raman结晶率测试模组、反射干涉测试模组、透射率和反射率测试模组等多种功能。