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数码激光成像与显示国家地方联合工程中心(联合共建)

日期: 2016-02-24     阅读次数:897

数码激光成像与显示国家地方联合工程研究中心(以下简称:工程研究中心) 于2011年11月获国家发改委批准挂牌。工程研究中心以企业为建设主体,通过产学研相结合,建立一个运行机制优化、创新目标清晰、产业应用牵引的创新平台。


              

 (一)工程研究中心构成

工程研究中心是由苏州苏大维格光电科技股份有限公司(以下简称:苏大维格公司)、苏州大学、中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所联合参与建设,其中,苏大维格公司为承建单位。共建单位苏州大学“微纳光学”投入研发经费3000万元,用于大型仪器设备采购和实验室建设。项目实施后,苏州工业园区管委会将提供全面支持。

(二)主要研究方向

1、微纳制造关键技术与装备:重点建立高端微纳制造的研发能力,研发微纳光刻、纳米压印关键技术与装备。提升行业的核心竞争力。

2、纳米印刷技术:重点突破面向无油墨纳米印刷的关键技术与行业应用,采用纳米压印技术实现微纳结构表达的3D图像,进行行业推广应用。

3、功能光电显示材料与器件:面向显示与照明、触控行业的重大需求,研究节能、环保的先进功能材料与器件,攻克超薄导光、微纳网格透明导电膜的核心技术,实现产业应用。

4、微纳界面工程:研究微纳结构实现不同性能器件的方法与系统,建立面向产业链的综合工程研发和配套能力。重点研究UV纳米制造工艺和功能结构设计,提供可以进行工程的前瞻性研究成果。

(三)科研条件

工程研究中心的实验室有:“大幅面激光干涉光刻装置”、“大幅面精密激光图形直写实验室”、“精密微纳模具与电铸实验室”、“纳米压印实验室”、“大口径衍射光学器件实验室”、“大幅面光刻胶涂布实验室”、“导光与增亮器件实验室”。

工程研究设施: 柔性制造与材料中试线(大型涂布系统、蒸镀设备、转移设备、刻蚀设备、纳米压印设备);大尺寸微纳图形化系统与器件中试线。拥有大型微纳图形光刻设备、紫外激光直写设备、3D激光全息制版光刻设备、无掩膜光刻直写设备、激光刻蚀设备、感应离子刻蚀设备、光子晶体直写设备、纳米组装设备、超薄导光生产与中试线、UV柔性制造中试线;光、机、电、算、新材料工艺一体化研究与实验条件。

配备了3D扫描仪、台阶仪、原子力显微镜、亮度色度仪、影像测试仪、光谱仪、尼康高倍显微镜、ICP,RIE,光刻机和系列型号激光光源。

(四)科研成果

1、建立基于纳米印刷新型产业基地。微纳结构产品在洋河蓝色经典、劲嘉科技、中兴通讯、华为科技、Nokia等企业得到应用。

2、金属网格透明导电膜在大尺寸触控传感器的产业化。2013年建立27寸(门幅宽度435mm-1300mm)卷对卷透明导电膜触控传感器的产线。自主研发了核心技术装备和产线,填补了我国大尺寸触控屏核心技术的行业空白,将是我国该领域取得重大突破的重大目标产品。

3、AMOS技术产业化。AMOS(Active matrix optical system) 技术是一项新型光学安全元件技术。它具有很多独特的视觉特征,如异向移动、同向移动、3D等多种效果。这一技术在高端光学视觉安全元件中有重要应用前景。课题组利用自主研制的激光直写制版设备、UV卷对卷纳米压印设备, 开展了AMOS技术的批量化技术研究与应用,目前已进入小试阶段。

4、承担了国家863专项、国家重大科学仪器专项、国家国际合作专项等多个国家、省级重大项目,并与相关上下游企业建立产业合作关系,与冠捷集团、京东方、小米、德普特、业际、劲佳科技等建立产业合作,加强了与芬兰国家技术研究院VTT建立了国际科技合作关系,与国际著名的触控企业建立了研发与供应关系。




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